硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次離子質譜檢測方法

標準號： GB/T 24575-2009

替代情況：

發布單位：中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局中國國家標準化管理委員會

起草單位：信息產業部專用材料質量監督檢驗中心、中國電子科技集團公司第四十六研究所

發布日期： 2009-10-30

實施日期： 2010-06-01

點擊數：

更新日期： 2025年03月12日

下載地址：點擊這里 863.99KB

下載點數：30點（VIP會員免費）

內容摘要

本標準規定了硅和外延片表面Na、Al、K 和Fe的二次離子質譜檢測方法。本標準適用于用二次離子質譜法(SIMS)檢測鏡面拋光單晶硅片和外延片表面的Na、Al、K 和Fe每種金屬總量。本標準測試的是每種金屬的總量,因此該方法與各金屬的化學和電學特性無關。
本標準適用于所有摻雜種類和摻雜濃度的硅片。
本標準特別適用于位于晶片表面約5nm 深度內的表面金屬沾污的測試。
本標準適用于面密度范圍在(109~1014)atoms/cm2 的Na、Al、K 和Fe的測試。本方法的檢測限取決于空白值或計數率極限,因儀器的不同而不同。?