本文件適用于硅、絕緣襯底上的硅（SOI）、鍺、碳化硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、銻化鎵等單晶拋光片或外延片表面金屬沾污的測定，尤其適用于晶片清洗后自然氧化層或經化學方法生長的氧化層中沾污元素面密度的測定，測定范圍：109 atoms/cm2～1 015 atoms/cm2。
本文件規定的方法能夠檢測周期表中原子序數16（S）～92（U）的元素，尤其適用于鉀、鈣、鈦、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、砷、鉬、鈀、銀、錫、鉭、鎢、鉑、金、汞和鉛等金屬元素。