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建立和控制原子發(fā)射光譜化學(xué)分析曲線規(guī)則

標(biāo) 準(zhǔn) 號: YB/T 4144-2019
替代情況: 替代 YB/T 4144-2006
發(fā)布單位: 中華人民共和國工業(yè)和信息化部
起草單位: 冶金工業(yè)信息標(biāo)準(zhǔn)研究院 等
發(fā)布日期: 2019-08-27
實施日期: 2020-01-01
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更新日期: 2022年04月08日
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本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了建立和控制原子發(fā)射光譜化學(xué)分析曲線的規(guī)則。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于火花原子發(fā)射光譜,不適用于X-射線發(fā)射光譜。盡管分析曲線的產(chǎn)生和日常控制運行關(guān)聯(lián),但是仍被看作是相互獨立的。因為計算機程序運行生成分析曲線的多元線性回歸是現(xiàn)成的,本標(biāo)準(zhǔn)不再詳盡描述該過程,但是,還是 給出了關(guān)于生成方程評估的一些推薦性規(guī)范。

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