本標準規定了重摻n型硅襯底中硼沾污的二次離子質譜測試方法。本標準適用于二次離子質譜法(SIMS)對重摻n型硅襯底單晶體材料中痕量硼沾污(總量)的測試。
1.2 本標準適用于對銻?砷?磷的摻雜濃度<0.2%(1×1020atoms/cm3)的硅材料中硼濃度的檢測。
特別適用于硼為非故意摻雜的p 型雜質,且其濃度為痕量水平(<5×1014 atoms/cm3)的硅材料的測試。
本標準適用于檢測硼沾污濃度大于SIMS 儀器檢測限(根據儀器的型號不同,檢測限大約在5×1012atoms/cm3~5×1013atoms/cm3)兩倍的硅材料。