本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用輝光放電質(zhì)譜(GD?MS)法測量多晶硅中雜質(zhì)元素的測試方法。?本標(biāo)準(zhǔn)適用于多晶硅材料中除氫和惰性氣體元素以外的其他雜質(zhì)元素含量的測定,測量范圍是本方法的檢出限至0.1%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)),檢出限根據(jù)所用儀器及測量條件確定。通過合適的標(biāo)準(zhǔn)樣品校正,也可以測量質(zhì)量分?jǐn)?shù)大于0.1%的雜質(zhì)元素含量。單晶硅材料中痕量雜質(zhì)元素也可參照本標(biāo)準(zhǔn)測量。
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